硬質氧化全稱硬質陽極氧化處理。鋁合金的硬質陽極氧化處理主要目的是,提高鋁及鋁合金的各種性能,包括耐蝕性、耐磨性、耐候性、絕緣性及吸附性等。它既適用于變形鋁合金,也可能用于壓鑄造鋁合金零部件。
一.硬質氧化vs普通氧化
1.厚度不同
硬質氧化比普通氧化厚度厚,一般普通氧化膜厚8-12um,硬質氧化膜厚一般50-100um。
2.硬度不同
硬度:普通氧化一般HV250-350,硬質氧化一般HV350-550。
3.溫度不同
普通18-22℃左右,有添加劑的可以到30℃,溫度過高易出現粉末或裂紋;硬質氧化一般在5℃及以下,相對來說溫度越低硬質越高。
二.氧化膜生成過程
在酸性溶液中,鋁陽極在外電流作用下氧化時,同時發生兩個過程:氧化膜的生成和氧化膜的溶解。只有當成膜的速度超過膜溶解的速度時,鋁表面才有氧化膜的實際存在。
槽液通電后,水首先被電解,因而在陽極上生成新生態氧。由于氧原子具有很強的活性,極易與鋁發生反應,在鋁件表面上生成三氧化二鋁膜層,在氧化膜形成的同時,由于溶液中酸(如硫酸)的作用,膜又不斷地被溶解。
三氧化二鋁是不導電的,氧化膜的形成后本會使鋁表面與溶液絕緣,導致電化學反應停止,但由于化學溶解作用,使氧化膜具有許多微孔,電解液可以滲入到鋁基體表面,因而,使氧化膜的形成與溶解反應不斷地進行。
但當氧化膜達到一定厚度時,表面不再生成氧化膜(原因:這層氧化膜不導電,但生成氧化膜必須要有電流,當氧化膜的厚度逐漸增加,其導電性越來越差,此時氧化膜的生成速度小于溶解速度,便不再繼續生成。
三.如何增厚氧化膜?
想要氧化膜繼續增加,有兩個核心因素:
1.增加電壓
硬質陽極氧化的初始電壓和時間對氧化膜質量也有很大影響。如果初始電壓過大,則會導致電流增加,焦耳熱和生成熱急劇增加,溶解速率急劇增加。氧化膜柔軟、無光澤、呈粉末狀且不耐磨。對于氧化處理時間,一般來說,氧化膜厚度隨氧化處理時間的延長而增加,但在一定時間后,如果施加的電壓不增加,氧化膜實際上不會增加。如果時間繼續延長,氧化膜硬度低,粉末疏松。相反,氧化處理時間太短,氧化膜厚度薄且不耐磨。
2.控制溫度
常規氧化一般在常溫下(20-25°C)進行。而硬質氧化的氧化溫度在≤5°C。冷卻設備使電解液強行降溫,攪拌是為了使整槽電解液溫度均勻,以利于獲得較高質量的硬質氧化膜。
四.硬質氧化特點
1.成本高
由于其氧化需要更長的時間和更長的電壓,需要有一個單獨的氧化槽。硬質氧化的槽液有區別于普通氧化槽液,前者溫度更低、硫酸濃度更低。對于銅含量大于5%或硅含量大于8%的變形鋁合金,或者高硅的壓鑄造鋁合金,應考慮增加一些陽極氧化的特殊措施。例如:對于2XXX系鋁合金,為了避免鋁合金在陽極氧化過程中被燒損,可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作為電解槽液,電流密度也應該提高到2.5A/dm以上。
2.溫度要求低
硬質氧化的氧化溫度要求≤5°C,因此進行硬質氧化需要配備一臺除冷機,以專門去降低它的溫度。如果溫度過高,溶液和電極會因焦耳效應而過熱。氧化膜溶解速度加快,硬度降低,表面粗糙、疏松、呈粉末狀。
五.工藝方法
硬質陽極氧化電解方法很多,例如:硫酸、草酸、丙二醇、磺基水楊酸及其它的無機鹽和有機酸等。所用電源可分為直流、交流,交直流疊加,脈沖及疊加脈沖電源等幾種,廣泛應用的有硫酸(草酸/混酸型)硬質陽極氧化法這三種硬質陽極氧化。
硬質陽極氧化的電解液時在-10℃~+5℃左右的溫度下電解。由于硬質陽極氧化所生成的氧化膜層具有較高的電阻,會直接影響到電流強度的氧化作用。
硫酸/草酸硬質氧化與普通陽極氧化無本質差異,混酸型硬質氧化存在以下附加反應:
01.陰極反應:4H+ +4e=2H2↑
02.陽極反應:4OH--4e=2H2O+O2↑
03.鋁氧化:陽極上析出的氧呈原子狀態,比分子狀態的氧更為活潑,更易與鋁起反應:2Al+3O→Al2O3
04.氧化于陽極膜溶解的動平衡:氧化膜隨著通電時間的增加,電流增大而促使氧化膜增厚。與此同時,由于(Al2O3)的化學性質有兩重性,在硫酸溶液中氧化膜液發生溶解,只有氧化膜的生成速度大于溶解速度,氧化膜才有可能增厚。當氧化速度過分大于溶解速度時,鋁和鋁合金制件表面易生成帶粉狀的氧化膜。
六.硬質氧化影響因素
鋁合金表面是否能生成優質的硬質氧化膜層,關鍵取決于電解液濃度和溫度。
1.濃度
采用硫酸電解液進行硬質陽極氧化時,一般在10%~30%濃度范圍內,濃度低時,氧化膜硬度高,特別是純鋁比較明顯,但對銅含量較高的鋁合金(CY12)例外。因為含銅量較高的鋁合金易生成CuAl2的化合物,這種化合物在氧化時溶解速度較快,極易燒毀鋁零件。所以一般不適合用低濃度的硫酸電解液,必須在高濃度(H2SO4在 300~400g/L)中進行氧化處理或采用交直流電疊加法處理。
2.溫度
電解液溫度對氧化膜的耐磨性影響極大,溫度下降,鋁合金的陽極氧化膜耐磨性能增高,這是由于電解液對于膜的溶解速度下降所造成的,為了獲得較高硬度的氧化膜。我們要掌握溫度在±2℃范圍內進行硬質陽極氧化處理為好。